[아시아경제 김대현 기자] 삼성전자와 SK하이닉스의 D램 반도체 관련 국내 핵심기술을 중국으로 빼돌린 협력업체 연구소장 등 17명이 재판에 넘겨졌다.

26일 서울중앙지검 영업비밀유출·정보통신범죄전담부(부장검사 조상원)는 국내 반도체 장비업체 A사의 연구소장과 영업그룹장을 산업기술보호법 위반 및 부정경쟁방지법 위반(영업비밀국외누설등) 등 혐의로 구속기소하고, 공정그룹장과 공장장, 하청업체 대표를 산업기술보호법 위반 등 혐의로 구속기소했다고 밝혔다.

또한 A사 부사장과 품질그룹장, 삼성전자 자회사 세메스(SEMES) 전 직원 등 12명도 이 같은 범행에 가담한 혐의를 받고 산업기술보호법위반죄 등으로 불구속 기소됐다.

검찰에 따르면 A사는 SK하이닉스의 HKMG 반도체 제조 기술을 2018년 8월부터 지난해 6월까지 중국 경쟁업체에 유출한 혐의를 받고 있다.

HKMG 기술은 D램 반도체의 성능을 높이기 위해 신소재를 사용한 최신 반도체 제조 공정 기술이다.

A사는 세메스 전 직원을 통해 취득한 초임계 세정장비 도면 등 반도체 첨단기술과 영업비밀을 몰래 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 받고 있다.

세메스가 세계 최초로 개발한 초임계 세정장비는 10나노급 D램 반도체 제조공정의 핵심 기술로 액체 이산화탄소를 활용해 반도체 세정용 화학물질을 건조한다.

검찰은 “국내 반도체 핵심 기술이 중국에 유출된 정황이 있다는 국정원 산업기밀보호센터의 정보를 받고 신속히 수사에 착수했다”며 “HKMG 반도체 제조 기술의 추가적인 유출을 방지하고, 유출 기술을 사용한 반도체 초임계 세정장비의 중국 수출을 사전에 차단했다”고 밝혔다.

김대현 기자 kdh@asiae.co.kr 

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